Установка плазмохимического реактивно-ионного травления Corial 210RL

Corial 210RL (200R) – это установка плазмохимического травления, которая предназначена для травления кремниевых сплавов SiO₂ , Si₃N₄ и металлов (W, Nb, Ta, Mo) с химией, основанной на фторировании.

Достоинства системы: Установка плазмохимического травления стандартно укомплектована безмасляным насосом Использование специальных челноков оптимизировано для каждого процесса перехода с кремниевого травления к травлению металлов. Это позволяет минимизировать эффект памяти и перезагрязнение. Использование вакуумного замка обеспечивает безопасность и повторяемость процесса плазмохимического травления Датчик завершения процесса травления полностью интегрирован в систему и в программное обеспечение. Это дает возможность контроля за процессом травления, определения степени травления в реальном времени и подсчет глубины травления с автоматической остановкой процесса.

 

Описание установки плазмохимического травления Corial 210RL (200R)

Установка плазмохимического травления с ручной системой загрузки под контролем компьютера с установленной ОС Linux (Fedora). Система использует фторированные реактивные газы для Si, SiO₂, Si₃N₄, Ge, W, Ta, Ti, Nb, Mo и травления полимеров. Если система укомплектована CCD -камерой с лазерным датчиком окончания процесса травления, это дает возможность автоматической многошаговости процесса.

Включает в себя следующие части:

• Камеру плазмохимического травления большого диаметра (300 мм). Она разработана для травления тонких пленок (Si, SiO₂, Si₃N₄, полимеров и таких металлов, как W, Ta, Ti, Mo) на кремниевых подложках диаметром до 200 мм. Установка укомплектована двумя сапфировыми стеклами диаметром 25 мм (одно для лазерной интерферометрии, другое – для визуального контроля процесса травления).

• Катод диаметром 220 мм, который укомплектован:

• верхней частью, сделанной из алюминия и охлаждаемой циркуляцией жидкого диэлектрика,

• алюминиевым челноком с графитовым столом для установки и снятия (загрузки и выгрузки) изделия,

• гелиевым теплообменником между задней частью челнока и катодом с контролем потока,

• MKS -измерителем электрического сопротивления для измерения давления гелия,

• механическим зажимом челнока,

• Катодным подъемником, который применяется для загрузки и выгрузки подложки и механического зажима челнока (управляется системным компьютером).

• Насосную систему с высокой проводимостью (теплопроводностью) ( ISO 160, 150 мм), специально разработанная для плазменных процессов. Она укомплектована:

• безмасляным насосом Alcatel ADP 122 O производительностью 95 м 3/ч,

• турбомолекулярным насосом Alcatel ATP 900 C (900 л/с и 200 sccm на 10 mT ) с инертной ( N₂) газовой продувкой,

• набором глубоковакуумных и обводных клапанов для грубого откачивания без остановки TMP ,

• отдельным измерителем для глубокого вакуума,

• MKS -измерителем электрического сопротивления 0-1 Torr для контроля давления,

• автоматическим контроллером давления с коротким временем отклика (меньше 1 секунды),

• отдельной азотной линией для (отвода, подвода, циркуляции,вентиляции) реактора с электропневматическим клапаном

• Систему электронного контроля , включающей:

• контроллеры оборудования, базирующиеся на 19-дюймовой 6 U полустойке (компьютер с процессором Celeron 400, 128 Мб ОЗУ, высокоскоростным портом Ethernet и встроенным программным обеспечением, записанным на 128-Мб карту памяти Compact Flash ),

• контроллер процесса, размещающейся в 19-дюймовой 1 U стойке(компьютер с процессором 1,3 ГГц, 512 Мб ОЗУ, высокоскоростным портом Ethernet и 80 Гб жестким диском).

• Высоковольтные (220 и 400 вольт переменного тока) и низковольтные (5 вольт, 15 вольт (+ и -), 24 вольта (+)) источники питания. 

• Распределительную камеру для газов, укомплектованную управляющей системой и тремя газовыми линиями (максимально до 9 газовых линий)для реактивных газов. Также комплектуется газовыми контроллерами потока UNIT .Каждая газовая линия включает в себя электропневматические 3-сторонние сильфоны с отсекающим клапаном и ручные 2-сторонние сильфоны с отсекающим клапаном.

• Сетью сравнения на 13,56 МГц с автоматическим сопротивлением до 300 Вт

• 300 Вт 13,56 МГц генератором RF с воздушным охлаждением на твердой основе с мониторингом прямой и отраженной мощности.

• Программное обеспечение COSMA , работающее на LINUX , которое обеспечивает:

• автоматическое переключение между шагами в мультишаговых процессах в соответствии с сигналами от датчика окончания процесса или таймеров. Число шагов каждого процесса может достигать 300. Число самих процессов ограничено только пропускной способностью контроллера жесткого диска.Система проверяет все параметры и отображает на дисплее ошибки, которые могут происходить. Каждый шаг процесса находится под пристальным мониторингом и четко контролируется, что дает высокую воспроизводимость (повторяемость) процесса и его работоспособность. Частью пакета программного обеспечения является запись информации с возможностью дальнейшего просмотра параметров уже завершенных процессов.

• доступно четыре режима программы:

• редактирование для подгонки параметров или создания новых параметров для процессов травления,

• запуск процесса с его контролем в реальном времени и выводом всех параметров на дисплей,

• оптимизация для разработки новых процессов с помощью интерактивного контроля процесса и его редактирования,

• режим технического обслуживания для диагностики и калибровки системы.

• система поддерживает высокоскоростное Интернет-соединение, защищенное брандмауэром, а так же соединение по VPN (виртуальной частной сети).

• Персональный компьютер под управлением ОС Linux , укомплектованный:

• процессором Intel Pentium ,

• 512 Мб ОЗУ и жестким диском,

• 17-дюймовым ЖК-монитором,

• мышкой и клавиатурой.

• Рамку и панель для оборудования.

• Охладитель с хладагентом для контроля температуры реактора,турбомолекулярного насоса и катода. Температура от 5 до 25°С, потребляемая мощность при 20°С – 2,2 КВт.

Дополнительное оборудование

Автоматический лазерный датчик окончания процесса с CCD -камерой для наблюдения за лазером (Ø25 µм) и предмета травления. Он укомплектован линзами с кратностью увеличения более 100 раз. Датчик измеряет степень травления, толщину протравленной поверхности и определяет окончание процесса. Также датчик укомплектован специальной поверхностью, двигающуюся в двух направлениях для точного позиционирования лазера.

Технические требования для установки Corial 210RL (200R)

• Электрообеспечение системы : 400 В (±10%) 3 фазы + нейтраль+ заземление / КВА, 50/60 Гц.

• Электрообеспечение охладителя : 240 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 7 КВА, 50/60 Гц.

* по умолчанию охладитель запитан от системы.

• Электрообеспечение ПК : 240 или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 0,8 КВА, 50/60 Гц.
• Электрообеспечение монитора : 240 или 110 В (±10%) 1 фаза +нейтраль + заземление / 0,4 КВА, 50/60 Гц.
• Общее энергопотребление в режиме процессинга 10,3 КВт.
• Общее энергопотребление в режиме ожидания 3,1 КВт.
• Сбрасываемая мощность в чистую комнату в режиме процессинга 3,2  КВт
• Сбрасываемая мощность в помещение перед чистой комнатой в режиме процессинга 3,5 КВт.
• Сухой и фильтрованный азот с регулятором давления (от 0 до 3 атм.). Регулятор заказывается покупателем.
• Подводка азота : полиамидный шланг Ø4/6 мм.
• Сжатый воздух , давление >7 атм., фитинг Ø4/6 мм,полиамидный шланг.
• Вытяжка производительностью ≥ 10 м 3/ч, соединение через ПВХ-трубу Ø80 мм.
• Подводка газа трубами из нержавеющей стали (316 L ) с клапанами и регуляторами давления от 0 до 3 атм.

* для газов ( SF₆, CHF₃, CF₄ и т.д.) должно быть установлено два регулятора

• Окончание подводки газа : фитинг Ø4/6 мм с разъемом VCR«мама».

• Качество газа – для электронной промышленности.
  
• Дополнительно : телефонная линия с ADSL -технологией.