Мы на карте
Для получения информации оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Оборудование Компоненты Сервис
Москва, Нижний Сусальный пер. 5, стр. 4

Платформа для нанесения и проявления фоторезиста Suss RCD8

Германия
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
  • картинка
картинкакартинкакартинкакартинкакартинка

Платформа нанесения и проявления резиста RCD8 может быть собрана из различных элементов: от базового модуля нанесения с ручным управлением до полуавтоматической установки с технологией GYRSET и системой проявления наливом или спреем, поэтому подходит как для ежедневной научно-исследовательской работы, так и для мелкосерийного производства

Производитель: SUSS MicroTec
Страна-производитель: Германия

Основные возможности:

  • нанесение и проявление спреем/поливом в одной установке уменьшает занимаемую площадь и сокращает затраты
  • Максимальное разнообразие процессов при минимальных эксплуатационных расходах
  • Эргономичное расположение всех элементов для простоты использования
  • Легкий перенос всех процессов с платформы RCD8 на производственное оборудование компании SUSS благодаря совместимости структуры
  • Все опции могут быть модернизированы на месте

Подойдет ли эта установка для моей технологии?Консультация эксперта
Система SUSS RCD8 является первым устройством, которое можно трансформировать из системы нанесения с запатентованной технологией GYRSET® в модуль проявления со спреевым нанесением в течение нескольких минут.
 
Платформа нанесения и проявления резиста RCD8 может быть собрана из различных элементов: от базового модуля нанесения с ручным управлением до полуавтоматической установки с технологией GYRSET® и системой проявления наливом или спреем, поэтому подходит как для ежедневной научно-исследовательской работы, так и для мелкосерийного производства.

При необходимости данную универсальную систему можно модернизировать прямо на месте дополнительными опциями, которые будут идеально соответствовать вашим потребностям.
Благодаря широкому выбору держателей и конфигураций установка RCD8 позволяет проявлять и наносить покрытие на подложки практически любой формы и из любого материала. Платформа может быть оборудована различными вариантами линий распыления и насосов для работы с резистом вязкостью от <1 сПз до более 55 000 сПз.

Решения RCD8
Характеристики и преимущества
  • нанесение и проявление спреем/поливом в одной установке уменьшает занимаемую площадь и сокращает затраты
  • Максимальное разнообразие процессов при минимальных эксплуатационных расходах
  • Эргономичное расположение всех элементов для простоты использования
  • Легкий перенос всех процессов с платформы RCD8 на производственное оборудование компании SUSS благодаря совместимости структуры
  • Все опции могут быть модернизированы на месте
Опции
  • Один интерфейс может контролировать до трех дополнительных модулей (модуль нанесения, проявления, нагревательная плита, охлаждающая плита)
  • Открытая чаша и/или модуль с технологией GYRSET
  • Проявление спреем или поливом
  • Подъемные штифты (также для обработки кромки)
  • Рука нанесения (макс. 4 линии нанесения + 1 шприцевая система)
  • Опции нанесения от <1 сПз до 55 000 сПз
  • Функции очистки (сопло, чаша, нити при работе с GYRSET, край пластины, задняя сторона пластины)

Универсальность и широкий функционал – надежная система от SUSS MICROTEC


установка нанесения резиста с технологией Gyrset.jpg


Уникальная технология GYRSET


В качестве дополнительной опции система RCD8 может быть оснащена запатентованной технологией нанесения фоторезиста GYRSET®. Технология GYRSET® предлагает больше возможностей при работе с различными фоторезистом и процессами и значительно снижает расход материалов. Более того, она позволяет наносить слой фоторезиста однородной толщины на всю площадь квадратных подложек (включая углы).



Установка нанесения резиста
с технологией
GYRSET



Программное обеспечение


Стандартное ПО, установленное на платформе RCD8 многократно проверено в производственных условиях и установлено на сотнях систем компании SUSS по всему миру. Управляющее ПО на базе Windows установлено на всех автоматизированных системах нанесения фоторезиста компании SUSS, что обеспечивает идеальную заменяемость систем. Графический интерфейс пользователя с сенсорной панелью контролирует работу и статус всей установки и резервуаров. Интуитивно понятные программы обеспечивают простоту и легкость эксплуатации. Создание рецептов максимально упрощено и происходит по принципу «указать и выбрать».

RCD8 Платформа нанесения и проявления резиста.png

Общее
Размер подложки 2" - 8" круглые, 2" - 6" квадратные 
Перемещение ручное, опционно: подъемные штифты
Интерфейс SUSS MMC Tool Control на базе Windows 7, промышленный ПК с сенсорным экраном
Макс. кол-во рецептов не ограничено
Макс. кол-во шагов 50
Коммуникации 400 В 16 A, 50 Гц, вакуум не требуется, производится N2 или сухим сжатым воздухом
Модуль нанесения: открытая чаша
Макс. скорость вращения

10 000 об/мин* ± 1 об/мин (с защитным колпаком),

12 000 об/мин по запросу
Ускорение 1 – 7 000 об/мин/с*
Модуль нанесения: GYRSET
Макс. скорость вращения
3 000 об/мин * ± 1 об/мин с технологией GYRSET
Ускорение 1 – 3 000 об/мин/с*
Модуль проявления: полив
Слив отдельное подключение слива
Материал чаши полиэтилен
Сопла дополнительная рука с 3 линиями (+ 3 линии на отдельном держателе)
Модуль проявления: спрей
Слив отдельное подключение слива
Материал чаши полиэтилен
Сопла до 3 в центре + до 2 сбоку (опции: промывка деионизированной водой, продувка азотом)
Модуль: нагревательная плита (HP8)
Контроллер MMC Tool Control системы RCD8 или опционно отдельный контроллер
Диапазон темп. 60 - 250 °C (± 0.5 °C < 120 °C; ± 1 % 120 °C)
Опции спекание с зазором, продувка азотом
Модуль: охлаждающая плита (CP8)
Контроллер MMC Tool Control системы RCD8 или опционно отдельный контроллер
Макс. темп. 20 - 25 °C; ± 1 °C

* зависит от подложки и держателя


Оборудование для полного цикла производства
SUSS MA/BA6 Gen2

SUSS MA/BA6 Gen2

Ручная установка ...

Для получения информации по установке оставьте свои данные и технический эксперт свяжется с вами
Нажимая кнопку «Отправить», я даю свое согласие на обработку моих персональных данных, в соответствии с Федеральным законом №152-ФЗ, на условиях и для целей, определенных в Согласии на обработку персональных данных.
Обратите внимание, что ответ специалиста может занять некоторое время.
×
Наверх